ST换相存储器开发获进展,有望最终取代闪存
意法半导体(ST)日前宣布,该公司在开发新型的最终可能会取代闪存的电子存储器中取得重大进步。这种新的技术叫做换相存储器(PCM),其潜在性能优于闪存,优点包括更快的读写速度、更高的耐用性,以及向...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-08-12
应用材料发布突破性Reflexion LK电化学机械平坦化系统
应用材料(Applied Materials)公司最近发布300mm的Reflexion LK Ecmp系统,这套系统是在应用材料原有的Reflexion LK平台上采用创新的电化学机械平坦化(Ecmp)技术,能在65纳米及往后的铜工艺与低介电...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-08-05
便携设备集成TV功能的设计挑战和解决之道
视频正变得像音乐一样可以随身携带。不久之后,人们将交换包含电视节目的小型存储设备,就像他们现在共享所喜欢的音乐一样。而且,他们还将能在各种不同的便携设备上播放这类视频。不仅如此,这些设...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-07-30
飞利浦LDMOS技术有进展,突破WCDMA基站效率瓶颈
飞利浦电子公司近日宣布,其LDMOS(Lateral Diffused Medal-Oxide-Semiconductor,横向扩散金属氧化物半导体)技术获得重大进展,据称这项技术将使WCDMA基站制造商突破RF功率放大器输出级30%的效率瓶...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-07-14
90纳米工艺带来的新变革
在电子工业领域,“工艺改进 (process shrink)”通常是指半导体公司将现有设计过渡到更小的工艺技术。在大多数情况下,这是降低芯片的成本、大小及功耗的一条升级途径。德州仪器 (TI) 的 720-MHz ...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-07-13
日本投资9亿美元推出新的半导体研发计划
日本电子信息技术产业协会(JEITA)日前宣布了一项投资超过9亿美元的研发计划,将在2006年3月替换现有的Asuka计划。这项尚未命名的计划旨在加强日本产业界、学术界和政府之间在半导体、半导体设备和...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-06-18
泄露问题威胁CMOS scaling
如果CMOS scaling将在来年持续推进的话,分崩离析的电子设计产业就需要重新凝聚在一起,解决与泄露有关的严重问题。
Sequence Design公司先进开发副总裁Jerry Frenkil表示,“问题变得越来越严重。...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-06-15
浅谈手机的新型显示屏OLED
由于有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-06-14
英特尔CTO:芯片设计需要重新思考
英特尔公司首席技术专家Pat Gelsinger在第41届设计自动化大会(Design Automation Conference)上发表主题演讲时表示,电子设计产业正进入一个空前复杂的时代,工具和方法论需要“从根本上重新思考”...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-06-14
Ntera将于04年第四季率先推出电铬显示器
初创公司Ntera采用电铬显示(electrochromic display)技术开发的首个直接驱动显示器将于2004年第四季度上市。
Ntera称之为纳米铬显示器(NCD),并声称这种电铬显示器能提供比当今LCD及新型显示技术...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2004-06-02
结果页码:
上一页
46
47
48
49
50
51
52
53
54
55
56
57
58
59
60
61
62
63
64
65
下一页
