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查询结果 共有648项符合氧化物的查询结果,以下是第631-640项。 (搜索用时 79 毫秒) 
三星推出70和80纳米工艺的4G NAND和512M DRAM
韩国电子巨头三星电子(Samsung Electronics)最近表示,已经利用先进的制造工艺开发出4-Gb的NAND闪存和512Mb的DRAM。但是,该公司没有说明上述芯片适用于什么内存接口,以及什么时候开始量产。 三星...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-10-13
ST宣称光发射硅接近产业化,半年内可用于制造光耦合器
意法半导体公司宣称,其早先发布的光发射硅技术功率输出因子为50,应该能够在六个月内用于制造光耦合器。 硅具备检测光的能力早为人知,这种材料已被成功用于制造分立传感器、电荷耦合器件阵列及作...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-09-29
利用标准CMOS工艺批量制造光微机电系统
在芯片制造中广泛采用的生产技术如CMOS??S工艺可以用来批量生产MEMS器件,这样不用更新设备,材料也是标准的。但MEMS也有其特殊性,只有在设计过程中考虑CMOS制造特性才能充分实现CMOS工艺带来的好...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-09-27
Nanometrics推出集成椭圆偏光计及反射计的测量工具
Nanometrics公司日前公布一种集成测量工具,该工具整合了紫外线分光镜椭圆偏光计及深紫外线分光镜(DUV)反射计。Nanometrics称,NanoOCD/DUV 9010提供单个工具衬盘上薄膜及薄膜堆栈厚度测量,以及阵...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-09-11
未来嵌入式闪存面临的兼容性与复杂性问题
对IC中代码和数据的可重写能力的需求为嵌入式闪存技术带来发展机遇。本文介绍了可实现“多代工厂设计转移”的非易失性存储器(NVM)技术与逻辑工艺兼容以及减轻其复杂性、成品率、设计可靠性等问题...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-08-09
DSL网关产品的电源管理解决方案
DSL(数字用户线)网关使小型企业、分支机构和家庭可以将一个单用户宽带互联网连接扩展到多个用户。这种网关通过一条以太网电缆连接到一个现有的DSL调制解调器,从而可为单个或多个用户提供一个物理...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-06-28
板间光互连的串扰和传输距离分析
通过印制线来实现在PCB板间的连接不能满足一些大量信息传输要求,基于全息技术的2D自由空间光互连技术是解决该问题的一种方案。本文分析了采用2D垂直腔体表面发射激光器(VCSEL)和微透镜(microlen...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2003-03-30
采用6 Sigma方法降低便携式产品的功耗
本文将把6 Sigma方法用于手机功耗控制,并探讨如何采用这种最佳功率实现方法使便携式产品达到更小的尺寸和最佳的功率指标。 无线设计工程师目前所面对的最关键需求之一是降低新型便携式产品的功...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2002-07-01
用于验证系统级芯片的COT设计流程
随着设计工艺水平的提高,系统级芯片的设计难度增大,建立正确的模型是成功设计的关键。拥有一套可靠模型的先决条件是建立合格稳定的半导体制造工艺,而建立起这样一个合格的工艺需要许多步骤。本文...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2002-04-27
电子设备中电路板布局、布线和安装的抗ESD设计规则
在电子产品设计中必须遵循抗arcH/ART/%BE%B2%B5%" target="_blank">静电释放的设计规则,本文介绍静电释放(ESD)产生的原理,以及机箱、屏蔽层、接地、布线设计等诸多设计规则,它们有助于预防并解决...
[国际工业自动化网] http://www.iianews.com2002-02-09
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